Αυτός ο ιστότοπος χρησιμοποιεί cookie ώστε να μπορούμε να σας παρέχουμε την καλύτερη δυνατή εμπειρία χρήστη. Οι πληροφορίες cookie αποθηκεύονται στο πρόγραμμα περιήγησης σας και εκτελούν λειτουργίες όπως η ανάγνωση σας όταν επιστρέφετε στον ιστότοπο μας και η βοήθεια της ομάδας μας να κατανοήσει ποιες ενότητες του ιστοτόπου θεωρείτε πιο ενδιαφέρουσες και χρήσιμες.
LATEST
Vertical NAND με υψηλότερη πυκνότητα bit από τη Samsung
Η Samsung ξεκίνησε τη μαζική παραγωγή ενός 1Tb triple-level cell (TLC) όγδοης γενιάς V-NAND με την υψηλότερη πυκνότητα bit στον κλάδο, όπως υποσχέθηκε στο Flash Memory Summit 2022 και στο Samsung Memory Tech Day 2022. Με 1Tb, ο νέος V-NAND διαθέτει επίσης την υψηλότερη χωρητικότητα αποθήκευσης μέχρι σήμερα, επιτρέποντας μεγαλύτερο αποθηκευτικό χώρο σε συστήματα επιχειρήσεων επόμενης γενιάς, παγκοσμίως.
«Καθώς η ζήτηση της αγοράς για πυκνότερη και μεγαλύτερης χωρητικότητας αποθήκευση ωθεί σε υψηλότερο αριθμό στρωμάτων V-NAND, η Samsung υιοθέτησε την προηγμένη τεχνολογία τρισδιάστατης κλιμάκωσης, για να μειώσει την επιφάνεια και το ύψος, αποφεύγοντας παράλληλα τις παρεμβολές από κύτταρο σε κύτταρο που συμβαίνουν συνήθως με την κλιμάκωση προς τα κάτω», δήλωσε ο SungHoi Hur, Executive Vice President του τμήματος Flash Product & Technology της Samsung Electronics. «Η όγδοη γενιά V-NAND θα βοηθήσει να ανταποκριθούμε στην ταχέως αυξανόμενη ζήτηση της αγοράς και θα μας τοποθετήσει καλύτερα στην παροχή πιο διαφοροποιημένων προϊόντων και λύσεων, οι οποίες θα αποτελέσουν το θεμέλιο των μελλοντικών καινοτομιών στον τομέα της αποθήκευσης».
Η όγδοη γενιά V-NAND αναμένεται να αποτελέσει τον ακρογωνιαίο λίθο για διαμορφώσεις αποθήκευσης που συμβάλλουν στην επέκταση της χωρητικότητας αποθήκευσης σε εταιρικούς διακομιστές επόμενης γενιάς, ενώ παράλληλα θα επεκτείνει τη χρήση της στην αγορά της αυτοκινητοβιομηχανίας, όπου η αξιοπιστία είναι ιδιαίτερα κρίσιμη.